然而，在这巨大的压力之下，一种熟悉的、近乎本能的情感开始在秀秀心中涌动——那不是畏惧，不是沮丧，而是一种被挑战所激发的、强烈的斗志与创新冲动。

她睁开眼，目光重新变得锐利而清澈。她拿起内部通讯器，接通了核心研发团队的电话。

“十分钟后，一号会议室，紧急技术研讨会。”她的声音平静，却带着不容置疑的决断力。

会议室里，气氛有些压抑。团队成员显然也都得知了赛林克斯发布会的消息，每个人的脸上都写满了凝重。

秀秀没有浪费时间安抚情绪，她直接走到电子白板前，拿起触控笔。

“各位，赛林克斯的CFET，大家都看到了。”她的目光扫过在场的每一位技术骨干，“这确实是一次强大的挑战，一次技术的‘第二次浪潮’。它告诉我们，仅仅掌握High NA EUV光刻技术，是远远不够的。器件的创新，与光刻的进步，必须像DNA双螺旋一样，紧密地缠绕在一起，协同演进。”

她在白板上画出了一个简单的示意图，一边是光刻机，一边是晶体管结构，中间用双箭头连接。

“CFET的出现，不是我们的噩耗，而是为我们指明了下一个必须攻克的战略高地！”秀秀的声音逐渐提高，充满了力量，“它带来的挑战是巨大的，但机遇同样巨大！这迫使我们必须跳出原有的思维框架，不能只满足于在现有架构下优化工艺参数。”

她开始引导团队进行头脑风暴。

“首先，我们需要立刻启动**CFET专项研究组**。”秀秀在白板上写下了“CFET”三个字母，并画了一个圈，“集中力量，攻克CFET涉及的关键工艺模块：高质量的选择性外延生长、低损伤的刻蚀技术、高深宽比的接触孔填充、以及层间介电材料的优化……我们要在最短的时间内，吃透它的技术原理和制造难点。”

“其次，**计算光刻团队**需要提前介入。”她看向负责计算光刻的专家，“针对CFET这种复杂的三维结构，开发新的光学邻近效应校正模型、反演光刻技术算法。我们需要模拟光在多层堆叠结构中的传播和反射，预测并补偿可能出现的图形畸变。这需要更强大的算力和更先进的算法。”

“第三，**材料团队**的任务更加艰巨。”秀秀的目光转向材料部门的负责人，“寻找更适合CFET堆叠的新型沟道材料？如何控制堆叠层之间的应力，避免缺陷产生？如何保证两层晶体管之间的完美电学隔离？这些都需要材料科学的源头创新。”

“最后，也是最重要的，”秀秀放下笔，双手撑在会议桌上，身体微微前倾，目光灼灼地看着所有人，“我们不能仅仅满足于跟随和模仿。赛林克斯给出了一个方向，但通往这个方向的路径可能不止一条。我们要在深入理解CFET的基础上，思考有没有属于我们自己的、更具竞争力的晶体管架构创新？比如，结合我们之前在纳米线晶体管上的技术积累，探索**环栅纳米线CFET**？或者，探索利用二维材料作为沟道的可能性？”

她的话，像一块投入平静湖面的石头，激起了团队成员眼中的火花。压力，开始转化为动力；凝重，逐渐被一种迎接挑战的兴奋所取代。

“秀博，您的意思是……我们不仅要跟进，还要想着超越？”一位年轻的工程师忍不住问道，声音里带着一丝激动。

“为什么不行？”秀秀反问道，嘴角甚至勾起了一丝自信的弧度，“‘弦光一号’我们都能做出来，CFET这座堡垒，我们就攻不下来吗？而且，我们要思考的，不是简单地攻下来，而是如何以更优的路径、更低的成本、更高的性能攻下来！这第二次浪潮，我们不仅要站稳，还要争取冲在浪尖上！”

会议持续了数小时，从技术难点拆解到资源调配，从短期目标设定到长期技术路线图规划。当秀秀最终宣布散会时，虽然每个人脸上都带着疲惫，但眼神中却重新燃起了那种熟悉的、攻坚克难的光芒。

秀秀最后一个离开会议室。她走到走廊的窗前，望着窗外。夕阳的余晖给园区镀上了一层金色。她感受到的，不再是发布会刚结束时那种沉重的压力，而是一种沉甸甸的责任感和一种蓬勃欲发的创新激情。

对手的强大，恰恰证明了这条道路的价值。这第二次浪潮，来得迅猛，但也彻底激发了她和团队下一轮创新的巨大动力。她知道，前路依然艰险，但她和她的团队，已经做好了迎浪而上的准备。光刻机的战役暂告段落，但属于中国芯片产业的、更加波澜壮阔的创新长征，才刚刚进入新的深水区。